Comme les disques de polissage de plaquettes en céramique d'alumine et de rodage en saphir utilisés dans les semi-conducteurs, le polissage au diamant, etc.
Processus : tous les types de processus de polissage et de rodage, tels que le polissage mécanique chimique CMP, le polissage mécanique, le polissage de précision.
Haute pureté et durabilité chimique
Haute résistance mécanique et dureté
Haute résistance à la corrosion
Résistance haute tension
Résistant aux hautes températures jusqu'à 1700ºC
Performances extrêmement résistantes à l'abrasion
Excellentes performances d'isolation
Tous les types de taille 180, 360, 450, 600 mm, etc.
Nom du produit | Disques de rodage de polissage en céramique d'alumine de haute pureté 99,7 |
Matériel | 99,7% alumine |
Taille normale | D180, 360, 450, 600mm, taille personnalisée acceptée. |
Couleur | Ivoire |
Application | Processus CMP Wafer et Sapphire dans l'industrie des semi-conducteurs |
Commande Min. | 1Photo |
Unité | Céramique d'alumine 99,7 | ||
Les propriétés générales | Teneur en Al2O3 | % en poids | 99.7-99.9 |
Densité | g/cc | 3.94-3.97 | |
Couleur | - | Ivoire | |
Absorption de l'eau | % | 0 | |
Propriétés mécaniques | Résistance à la flexion (MOR) 20 ºC | MPa(psix10^3) | 440-550 |
Module élastique 20ºC | GPa (psix10^6) | 375 | |
Dureté Vickers | Gpa(kg/mm2) R45N | >=17 | |
Résistance à la flexion | Gpa | 390 | |
Résistance à la traction 25ºC | MPa(psix10^3) | 248 | |
Résistance à la rupture (KI c) | MPa* m^1/2 | 4-5 | |
Propriétés thermiques | Conductivité thermique(20ºC) | W/mk | 30 |
Coefficient de dilatation thermique(25-1000ºC) | 1x 10^-6/ºC | 7.6 | |
Résistance aux chocs thermiques | °C | 200 | |
Température d'utilisation maximale | °C | 1700 | |
Propriétés électriques | Rigidité diélectrique (1MHz) | ca-kv/mm(ca v/mil) | 8.7 |
Constante diélectrique (1 MHz) | 25ºC | 9.7 | |
Résistivité volumique | ohm-cm (25ºC) | >10^14 | |
ohm-cm (500ºC) | 2 × 10 ^ 12 | ||
ohm-cm (1000ºC) | 2 × 10 ^ 7 |
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